SY系列超声波清洗系统，主要应用于半导体,硅片,晶圆,电真空器件,电子元件,ITO导电玻璃、LCD基板清洗、液晶片封装后残留液晶清洗。 主要特征如下：       * 采用中性水基、超纯水等清洗液进行清洗，完全引进日本先进技术和生产工艺，能高效、彻底清除工件表面的污垢和水份，达到成品之前清洁度要求。 　　* 设有独特的超净化干燥系统，使工件完成清洗和干燥工序后 能立即进入产品中间加工工序。 　　* 设有清洗储液槽及独立的过滤循环系统，保持洗液的清洁。 　　* 洗液的加热均置于储液槽中，且配有液温可调及自动控制系统。 　　* 设有过载等自动保护报警系统，以保证整机安全运行。 　　* 设有超纯水连接系统,提供超纯水处理设备配置。 　　* 各清洗槽均设有清洗过程抛动装置，提高清洗效率且产品质量的一致性好。 　　* 设有隧道式超净化热空气过滤干燥系统，保证产品顺利进入下道工序。 　　* 超声系统采用投入式震板装置，便于维修及保养；采用进口换能器，超声转换率高，清洗效果好。 　　* 采用完全不锈钢结构，集日本、西欧等名牌厂家的原材料和元器件配套。整机外形美观，性能卓越稳定。