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ZESTRON 南亚区亮相NEPCON越南展览会

放大字体  缩小字体 发布日期:2017-09-07  浏览次数:386
核心提示:全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布我们将出席2017 NEPCON越南展。展会将于2017年9月13日至15日在河内国际展览中心举行,ZESTRON真诚欢迎您前往K08a展台进行参观和咨询。

 

全球领先的电子制造业精密清洗产品、清洗工艺解决方案及专业技术培训提供商ZESTRON非常荣幸地宣布我们将出席2017 NEPCON越南展。展会将于2017年9月13日至15日在河内国际展览中心举行ZESTRON真诚欢迎您前往K08a展台进行参观和咨询

此次ZESTRON将展出已经在业界广泛部署的全球首款自动化高精度浓度测试控制仪ZESTRON EYE和专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂HYDRON® SE 230A展会现场,您可以了解到这些产品的详细信息,面对面地与我们专业的工艺工程师进行交流,并将有机会赢取精品

ZESTRON® EYE采用了独特创新感应方法3P技术,由感应器和控制器两部分组成ZESTRON® EYE专为ZESTRON清洗剂设计,能够精确实现对电子清洗工艺中清洗液浓度的实时测定,且不会受到清洗液中助焊剂残留载荷量的影响。 

HYDRON® SE 230A是一种单相水基型清洗剂能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。

 
 
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